各潛在投標

現就各潛在投標人對招標文件的提問答疑如下，按照招標文件的規定，下列的答疑是招標文件的組成部分。

問題：1、貴司于2021年10月19日發布的《中國電子科技集團公司第二十九研究所四威科創基地項目一期三批次設計/標段》招標文件中，公布的項目總平面圖與我司概念方案一致。貴司在未經我司授權情況下，擅自公開、使用我司勞動成果進行招標，嚴重違反《中華人民共和國著作權法》，嚴重侵犯了我司權益。2、貴司在招標文件中明示：“A01、C01、C02、C03建筑平面方案設計的房間凈面積及總建筑面積誤差應在士1%以內(房間的凈面積在100㎡以下時，允許誤差為1㎡)，超過誤差范圍的投標將被否決。”這嚴重違背建筑設計的常規，極度不符合設計常理，存在嚴重針對某個投標方案及投標人的指向性。我司認為此次招標活動存在不合規情形，要求貴司在2021年10月30日之前對侵權一事進行合理解釋！我司保留向上級相關主管部門進一步申述和反映的權利。

答復：1、2021年10月19日發布的《中國電子科技集團公司第二十九研究所四威科創基地項目一期三批次設計/標段》招標文件中，公布的項目總平面圖不存在侵權。2、請投標人按招標文件要求執行。

第二十九研究所

2021年10月28日